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三星与台积电合作生产英伟达下一代HBM基底裸片
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三星电子宣布将采用台积电3nm工艺为英伟达生产下一代定制高带宽内存(HBM)的核心组件——基底裸片。这一合作标志着三星与台积电在技术上的重要进展,预计将提升HBM产品的性能和一致性。
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最新进展10月18日 22:51
三星将采用台积电3nm工艺为英伟达生产下一代HBM基底裸片报道时间线
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10月18日
- IT之家三星将采用台积电3nm工艺为英伟达生产下一代HBM基底裸片
三星电子将采用台积电3nm工艺为英伟达生产下一代定制高带宽内存(HBM)的核心组件——基底裸片。此举标志着三星与台积电在技术合作上的重要进展,并有助于提升HBM产品的性能和一致性。
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